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- 입사 각도를 바꿔 투과율과 반사율의 광량 분기비를 바꿀 수 있는 가변식 빔 보정판입니다. - 외장 광량 조정이 필요한 경우, 광학계의 조정 등으로 일시적으로 광량을 약하게 하고 싶은 경우에 사용됩니다. - 레이저 빔을 투과·반사 분기로 임의의 2가지 광량으로 나누고 싶은 경우에 사용할 수 있습니다. - 코팅에 유전체 다층막을 사용하여 내광성과 내구성이 뛰어납니다. - 빔 스플리터 경사에 의해 발생하는 빔 시프트는 보정판을 사용해 제거할 수 있습니다.(사용방법 참조) - 임의의 편광에 대해서도 사용할 수 있습니다만, 투과율 특성은 편광 상태에 따라 다릅니다. - 크기와 파장특성 등, 카탈로그에 게재된 제품 이외의 물건의 제작도 가능합니다. - 빔 스플리터 각도를 조정하는 홀더나 스테이지에 대해서는, 문의해 주십시오. - 이 가변빔 스플리터를 사용하여 유닛화한, 레이저용 배리어블 어티네이터(SVAB)도 준비되어 있습니다. - 각종 특성 그래프의 수치 데이터는 로 데이터를 참고해주세요. - 고출력 레이저에 사용할 경우는 반사광의 끝을 확실하게 행해 주십시오. - 소자가 고온이 되면 반사율 특성이 변동될 수 있습니다. - 투과율 조정을 위해 입사 각도를 바꾸면 투과광 빔의 평행이동량도 변화합니다. - 이 평행이동을 원래대로 되돌리기 위해 보정판(WSQNA/WBNA)을 사용하십시오. - φ30mm 이상의 레이저빔을 입사시켜 빔 스플리터를 크게 경사시킨 경우, 출사빔이 파손될 수 있습니다. - P 편광으로 사용할 경우, 45도보다 큰 입사 각도가 필요합니다. |
Laser Damage Threshold | 2.5J/cm2 |
Coating | Both surfaces ; Antireflection coating |
Surface Quality (Scratch-Dig) | 10−5 |
Wavelength Range | 532nm |
Surface flatness | λ |
Material | BK7 |
Transmittance of S Polarization (θ=0° - 45°) | 98% (average with respect to wavelength.) |
Parallelism | <5″ |
Clear aperture | Circle that internally connected to 90% of the side length |
Effective beam incident diameter | Ellipsoidal 30×43mm (Angle of inclinaison) |
상품명 | WBNA-50S03-1-532-0/45D Light path corrector |
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상품요약정보 | 입사 각도를 바꿔 투과율과 반사율의 광량 분기비를 바꿀 수 있는 빔 스플리터 보정판입니다 |
판매가 | 291,500원 |
국내·해외배송 | 국내배송 |
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